在我國高功率激光系統的研制工作中，光隔離器所使用的大口徑磁旋光玻璃一直是制約系統開發的瓶頸之一。目前,世界上掌握這一制造技術的僅有日本、德國和俄羅斯等少數幾個發達國家,其中能制造口徑在φ200mm磁旋光玻璃的技術始終被日本、俄羅斯所壟斷。由于磁旋光玻璃制造技術難度大、工藝復雜,該技術一直被國外列重點限制出口的范圍。我國開展磁旋玻璃的研究工作已有二十年,目前雖已能夠制造普通的磁旋光玻璃,但在研在制大口徑磁旋光玻璃的關鍵技術上終未能取得突破,且產品均勻性不高遠遠不能滿足國家科研工作和大工程目對這一材料的需求。
　　
　　我所瞬態光學與光電子學國家重點實驗室年輕的研究人員鄒快盛博士及其課題組經過10個月的艱苦探索和實驗研究，終于在研制大口徑磁旋光玻璃的關鍵技術上取得重大突破,成功研制出高光學均勻性φ300mm的大口徑磁旋光玻璃各項性能指標均優于日本公司其光學均勻性Δn達到±1×10-6，達到了實際應用的技術要求。
　　
　　該技術的完成填補了國內空白，打破了國際壟斷與封鎖，對國家高技術的發展提供了關鍵技術支撐，具有重要的戰略意義，在國際領域中具有一定的顯示度。